NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
ASML EUV光源功率提至1000瓦，2030年目标产能增50%
ASML展示EUV光源功率提升至1000瓦，目标2030年前将单机晶圆产量提高50%至每小时330片。技术突破在于将锡滴频率翻倍并采用双激光脉冲。中性：此为长期研发路线图，对当前组件供应、价格及交易决策无直接影响。
EUV Lithography Systems
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来源：TrendForce · 2026/2/23 · 查看原始来源
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