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阿斯麦EUV光源技术突破,2030年芯片产能或增50%

阿斯麦研究人员找到提升EUV光源功率方法,预计到2030年芯片产量可提高50%。该技术通过强化锡滴发生器实现功率提升,升级后设备每小时处理晶圆数将增加。关注:长期看,先进制程逻辑芯片的产能瓶颈有望缓解,但2030年的远期目标对短期交易影响有限。

EUV Lithography Systems
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来源:IT Home · 2026/2/23 · 查看原始来源

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