NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：15/100
ASML High-NA EUV光刻机2027年量产
ASML预计其High-NA EUV光刻机将于2027-28年投入量产，英特尔、三星和SK海力士将成为首批采用者。该技术是未来生产1.4纳米逻辑芯片和10纳米以上DRAM的关键。中性：此为长期研发路线图，对当前组件供应、价格及产能无直接影响。
Logic (1.4nm)DRAM (10nm-and-beyond)
EUVHigh-NAroadmapR&D
来源：TrendForce · 2026/2/15 · 查看原始来源
查看 NuAxi 完整情报 →
实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生