NuAxi半导体贸易情报
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中国EUV原型机曝光，量产预计2030年
路透社报告称中国团队已完成EUV光刻机原型，预计2030年才能量产芯片。背景是出口管制下，中芯国际等正通过多重曝光用DUV工具生产近5nm芯片。利多/利空/关注: 中性，此为远期研发进展，对当前组件供应、价格及交易决策无直接影响。
EUV Lithography ToolsDUV Lithography Tools
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来源：Power Electronics News · 2026/2/17 · 查看原始来源
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