NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：8/100
密歇根大学实现3D结构ScAlN薄膜PEALD沉积
密歇根大学首次在3D结构上实现PEALD沉积ScAlN薄膜，获陆军研究办公室资助。该技术旨在提升压电器件在复杂结构上的制造潜力。中性：此为远期工艺研发，对当前元件供应链、价格及交易无直接影响。
ScAlN Piezoelectric FilmsMEMSRF Filters
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来源：Semiconductor Today · 2025/10/21 · 查看原始来源
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