Mivium发布经独立第三方表征的300至500纳米相纯六方纤锌矿GaN粉体，薄膜沉积尚属早期研发

发生了什么

Mivium, Inc.（总部位于美国加州Fremont的材料技术公司，Eric Tsai于2022年联合创立并任CEO）在采访中表示，公司生产亚微米级氮化镓（GaN）粉体，并刚发布了经独立第三方表征的结果。所公布的材料为相纯六方纤锌矿GaN，粒径范围300至500纳米，具有均匀分布和晶面形貌；独立第三方表征采用SEM、EDS、XRD、XPS、GDMS和ICP-MS。公司为美国本土企业，已募资超过1050万美元。目标应用为晶体生长、衬底开发和薄膜工作；公司明确表示不是晶圆或器件公司，且不假定其粉体适用于每一条外延流程，适配性因应用而异。同一平台可延伸至氧化镓和氮化硼等其他宽禁带材料。薄膜方面，公司已完成基于粉体平台的初期GaN沉积工作，但强调这是早期研发。采访中提及AI电源、电动车和RF需求对上游环节的拉动，以及客户关注批次间一致性与供应保障；上述均为公司陈述。原文未说明任何价格变动、产能变化或供需事件。

影响与信号

受影响器件与厂商

来源与时间

来源：SemiWiki · 2026/10/25 · 查看原始来源