中微公司Primo Domingo气相高选择性刻蚀设备全球首台付运国内一家重要集成电路客户，面向GAA、3D NAND与3D DRAM，从3月发布进入客户端实际验证环节

10月22日，中微公司宣布其Primo Domingo气相高选择性刻蚀设备的全球首台机已付运国内一家重要集成电路研发制造客户。该设备针对GAA晶体管、3D NAND和3D DRAM等下一代三维器件工艺开发，中微公司称其填补了国内在下一代3D半导体器件制造中关键刻蚀工艺的自主化空白。该设备并非首次亮相——中微公司今年3月已发布该产品，此次付运意味着从产品发布进入客户端实际验证环节。据公司介绍，Primo Domingo在GAA与3D DRAM关键工艺的实验室验证中实现了大于700:1的SiGe/Si选择比，但该数据尚待客户端量产验证确认。背景数据：2026年上半年公司营收66.91亿元，同比增长34.89%；2025年全年刻蚀设备销售收入98.32亿元，占公司整体营收约八成；截至2026年6月底累计超过8800个反应台在国内外220余条生产线上量产；国内刻蚀设备国产化率约31%，中微公司与北方华创合计占国产刻蚀设备市场约95%份额；介质刻蚀深宽比达60:1至90:1，硅刻蚀深宽比达140:1，双反应台ICP刻蚀加工精度达0.2纳米级别。原文未说明付运的直接原因。

来源：IT Home · 2026/10/22 · 查看原始来源