超越EPE预算：构建下一代计算光刻技术，需更好模型、更丰富计量、可解释AI与跨行业协作以延续半导体微缩

Semiconductor Engineering 发布一篇题为《Beyond The EPE Budget: Building The Next Generation Of Computational Lithography》的技术评论文章，指出更好的模型、更丰富的计量手段、可解释的 AI 以及跨行业协作必须共同发力，以延续半导体制程微缩。原文未提及具体公司、产品、价格或数量信息，属于行业技术背景讨论。

来源：Semiconductor Engineering · 2026/10/22 · 查看原始来源