恒州诚思发布报告：2025年全球二硫化钼溅射靶材市场规模约3.99亿元，预计2032年接近6.04亿元，未来六年CAGR为6.1%

恒州诚思（YH Research）于2026年10月22日正式发布《2026-2032全球二硫化钼溅射靶材行业头部企业市场占有率及排名调研报告》（报告编号：3510217）。据其调研统计，2025年全球二硫化钼溅射靶材市场规模约3.99亿元（约58.69百万美元），预计到2032年市场规模将接近6.04亿元（约88.76百万美元），未来六年CAGR为6.1%，为预测数据而非实际结果。报告核心总结显示，全球二硫化钼溅射靶材市场均价约4800美元/千克，销量约10–12吨，行业毛利率32%。报告称该靶材以高纯MoS₂为主要成分，用于磁控溅射沉积MoS₂薄膜，应用涵盖航空航天、真空机械、精密零部件及半导体薄膜等领域，下游包括工业摩擦学涂层、航空航天与空间机构、半导体与二维电子薄膜、光电子与光学薄膜、科研及特种功能薄膜；报告列举的主要厂商包括American Elements、Kurt J. Lesker、Stanford Materials Corporation、Goodfellow、Kojundo Chemical、Nihon Material、Bayville Chemical、金堆城钼业、长沙鑫康新材料、江西科泰新材料、中诺新材、六九科技等。此为市场研究机构发布的行业报告内容，属背景信息，原文未说明任何价格变动、产能变化或供应中断事件。

来源：格隆汇·半导体 · 2026/10/22 · 查看原始来源