华为黄宇在2026湾芯展表示韬定律最大挑战在于EDA工具，工艺、工程和系统设计挑战也都存在

据《科创板日报》10月15日报道，华为半导体EDA首席科学家黄宇今日在2026湾芯展上表示，韬定律最大挑战在于EDA工具，同时工艺挑战、工程挑战和系统设计挑战也都存在。黄宇透露，华为的韬（τ）定律主要分四层：最基础的器件层，优化晶体管结构和互联方式，从源头压缩器件时间常数；第二层是链路层，是其最大的创新点；第三层是芯片层，软硬件协同设计，形成新架构；第四层是系统层，即超级节点、机柜互联，需要更好的通讯协议和更快的速度。原文未说明价格或供应影响。

来源：IT Home · 2026/10/15 · 查看原始来源