RPI团队演示2-7nm远程外延

罗格斯理工学院团队演示了2-7nm远程外延技术。该技术涉及在一种衬底上生长半导体薄膜并转移到另一种衬底。关注：目前仅为实验室技术，尚未对供应链产生直接影响。

来源：Semiconductor Today · 2025/11/12 · 查看原始来源