Carl Zeiss SMT与ASML研究人员发表Hyper-NA EUV技术论文：研究数值孔径至少0.75的系统，作为超越当前0.55数值孔径High-NA系统的路径

Carl Zeiss SMT与ASML的研究人员发表了一篇题为“Hyper-NA: a system with a numerical aperture of at least 0.75”的技术论文。论文研究了数值孔径至少为0.75的Hyper-NA EUV光刻技术，将其作为超越当前0.55数值孔径High-NA系统的路径，内容涵盖光学架构、分辨率潜力以及掩模版3D（reticle 3D）等方面。该内容属于研究论文发表，不涉及具体产量、价格或量产计划，原文未说明任何原因或实施时间表。

来源：Semiconductor Engineering · 2026/10/7 · 查看原始来源