NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
ACM发布新型CMP后清洗设备
ACM Research推出用于硅和碳化硅衬底制造的新型CMP后清洗设备。该工具旨在提升先进衬底制造环节的良率和产能。中性：此为背景技术进展，对具体元器件的供应、需求及价格无直接即时影响。
SiC Substrates
equipmentmanufacturingyield
来源：Semiconductor Today · 2022/7/13 · 查看原始来源
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实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生