中科院用DUV实现3nm级性能

中国科学院（CAS）据报道使用DUV光刻技术开发GAA晶体管，以实现3nm级性能，可能绕过对EUV光刻机的依赖。这是先进节点技术的一项重要研发里程碑。中性：目前对现货价格或供应链可用性没有直接影响。

来源：TrendForce Official (Market Data) · 2026/9/18 · 查看原始来源