NuAxi半导体贸易情报
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光刻胶烘烤工艺影响DUV光刻随机误差研究
研究分析了PAB和PEB工艺参数对DUV浸没式光刻随机误差的影响。文章指出光刻胶烘烤过程存在化学图像平滑与保真度之间的权衡。利多：优化烘烤工艺有助于提升先进制程的良率与工艺稳定性。
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来源：SemiWiki · 2026/9/15 · 查看原始来源
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