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Intel ASML宣布High NA EUV量产100万片
Intel与ASML宣布High NA EUV光刻机量产100万片晶圆，主要应用于Intel 18A工艺。剩余35万片由台积电、三星等用于测试，双方正合作开发6x12英寸光罩以解决视场减半问题。关注High NA EUV产能扩张及未来AI芯片制造的技术突破。
High NA EUV LithographyEUV Photomasks
High NA EUVIntelASMLCapacity ExpansionPhotomask
来源：快科技 · 2026/9/8 · 查看原始来源
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