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住友电工发布Hf基栅极N极性GaN HEMT

住友电工在2022年IEEE BCICTS会议上发布采用Hf基栅极介质的N极性GaN HEMT技术。该研发针对未来更高容量与高速通信的后5G时代需求。中性:此为远期研发里程碑,对当前GaN组件供应链、价格及产能无直接影响。

GaN HEMT
R&DGaNpost-5G

来源:Semiconductor Today · 2022/10/27 · 查看原始来源

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