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英特尔攻克封装墙,HBM良率提升至99%

英特尔在Fab9攻克超大型芯片封装流体密封难题,实现7倍网格极限EMIB封装良率超99%。该技术通过优化材料与喷涂策略,解决了HBM等高密度集成芯片的空隙缺陷,为下一代AI算力系统提供关键支撑。利多:封装瓶颈突破将提升HBM及Chiplet供应链的产能释放能力。

ChipletsHBMEMIBFoverosGlass Substrate
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来源:cnBeta · 2026/7/29 · 查看原始来源

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