NuAxi半导体贸易情报
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英特尔拟推双面供电14A Gen2工艺
英特尔计划推出双面供电的14A Gen2工艺，将金属间距压缩至21纳米。此举旨在应对台积电与三星的1.4纳米技术攻势。关注：英特尔代工竞争力提升，但量产时间表仍存不确定性。
晶圆代工
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来源：cnBeta · 2026/7/6 · 查看原始来源
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