NuAxi半导体贸易情报
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英特尔拟为14A2工艺采用双面供电
关注英特尔拟为14A2工艺采用双面供电以应对M0晶圆间距缩小至21nm的光刻限制。此举旨在提升密度以增强竞争力，但属于研发技术调整，尚未对现货供应或价格产生直接影响。
工艺节点技术趋势英特尔
来源：TrendForce Official (Market Data) · 2026/7/6 · 查看原始来源
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实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生
关注英特尔拟为14A2工艺采用双面供电以应对M0晶圆间距缩小至21nm的光刻限制。此举旨在提升密度以增强竞争力，但属于研发技术调整，尚未对现货供应或价格产生直接影响。
来源：TrendForce Official (Market Data) · 2026/7/6 · 查看原始来源
实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生