NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
东京大学扩展高NA EUV传输系数公式
东京大学研究人员发表高数值孔径EUV传输系数公式研究。该研究基于SPIE 2026会议，修正了包含极化效应的STCC公式。关注：技术细节优化有助于提升高NA EUV光刻精度，但短期无供需影响。
High-NA EUV LithographyEUV Lithography
R&DEUVLithography
来源：Semiconductor Engineering · 2026/5/6 · 查看原始来源
查看 NuAxi 完整情报 →
实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生