NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：15/100
台积电推迟High-NA EUV设备采购至2029年后
台积电宣布将推迟至2029年后引入ASML新一代High-NA EUV光刻机，主因成本过高。此举标志其竞争重点从设备领先转向工艺整合与成本控制。利空/利空/关注：中性。该决策为长期技术路线调整，对当前芯片供应、价格及交易无直接影响。
EUV Lithography Equipment
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来源：DigiTimes Asia · 2026/4/26 · 查看原始来源
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实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生