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富士胶片推世界首款氟化物免费ArF光刻胶

富士胶片推出全球首款氟化物免费负型ArF浸没式光刻胶。该产品专为AI服务器等高性能计算系统设计。利多关注:技术突破有望降低制造成本,但短期现货价格影响有限。

ArF Immersion Photoresist
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来源:EE Times Japan · 2026/4/26 · 查看原始来源

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实时定价、供应信号与 AI 分析,为半导体贸易商而生