NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：8/100
AlixLabs获250万瑞典克朗研发原子层刻蚀技术
瑞典初创公司AlixLabs获得Vinnova 250万瑞典克朗资助，用于2024年9月至2026年8月期间继续研发其原子层刻蚀间距分裂技术。该资金属于一个总额400万瑞典克朗的战略创新项目的一部分，旨在推进半导体制造工艺。利空/利多/关注: 中性。此为早期研发进展，对当前电子元件的供应、价格及产能无直接影响。
Advanced Logic (Potential)
R&Dfundingetching-technology
来源：Semiconductor Today · 2024/6/3 · 查看原始来源
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