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三星首次在4nm量产线测试国产EUV掩模

三星电子首次在4nm量产线测试S&S Tech提供的EUV掩模基板,旨在降低对日本HOYA的依赖。此次测试标志着国产化材料首次进入大规模生产环境,此前三星主要在研发阶段评估该材料。关注 - 虽然有助于供应链多元化,但短期对价格影响中性,需观察良率反馈。

EUV blank masks
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来源:The Elec · 2026/4/16 · 查看原始来源

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