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Forge Nano发布TEPHRA 200mm ALD设备

美国Forge Nano推出TEPHRA 200mm单片ALD集群设备,旨在提供具有高吞吐量和前驱体效率的商业规模生产能力。关注 新设备上市对ALD工艺效率及未来产能的潜在影响。

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来源:Semiconductor Today · 2024/7/4 · 查看原始来源

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