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谷歌AlphaEvolve助Substrate光刻提速680%

谷歌DeepMind的AlphaEvolve优化了Substrate的光刻堆栈,将运行速度提升680%,计算成本降低97%。该技术通过AI算法调整代码数据类型,使其能在TPU上运行,并实现12nm特征尺寸的双向M1金属互联层。关注:AI与硬件协同进化将重塑计算光刻产业链,长期可能降低先进制程制造门槛。

X-ray LithographyLithography Equipment
AILithographyEfficiencyR&D

来源:IT Home · 2026/4/8 · 查看原始来源

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实时定价、供应信号与 AI 分析,为半导体贸易商而生