NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：15/100
NexGen发布SERENO湿法清洗平台，Q1交付
NexGen Wafer Systems发布SERENO多腔湿法刻蚀清洗平台，首批交付定于2025年第一季度。该公司是专业湿法工艺设备供应商，此次为常规产品迭代。中性：新设备发布未直接影响具体芯片供需或价格，对交易决策无即时影响。
Wet Etch and Clean Equipment
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来源：Semiconductor Today · 2024/11/13 · 查看原始来源
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