NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：8/100
imec安装全球首台ASML EXE:5200高NA EUV系统
研究机构imec在其比利时鲁汶工厂安装了ASML最先进的EXE:5200高数值孔径EUV光刻系统。此举是imec与ASML战略合作的一部分，旨在为2纳米以下逻辑与存储技术研发提供平台。利空/利多/关注：中性，此为长期研发里程碑，对当前电子元件供应、价格及交易决策无直接影响。
High NA EUV Lithography Systems
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来源：EE Journal · 2026/3/19 · 查看原始来源
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