NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
imec获ASML High-NA EUV系统，2026年Q4验证
比利时研究机构imec接收ASML最先进的EXE:5200 High-NA EUV光刻机，目标于2026年第四季度完成验证，用于2纳米以下逻辑与高密度存储研发。英特尔、三星电子和SK海力士也已开始安装同类设备，为2027-2028年量产做准备。中性：此为长期研发里程碑，对当前元器件供应、价格及交易决策无直接影响。
LogicHigh-Density Memory
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来源：TrendForce · 2026/3/18 · 查看原始来源
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