华力微电子开发7nm工艺，国产EUV光刻机目标2030年

韩国专家预测中国可能在2030年前推出国产EUV光刻机；路透社报道华虹集团旗下华力微电子正开发7nm工艺，目标2026年底实现月产数千片晶圆的初期产能。此举是中国为突破技术限制、建立自主半导体生态的长期努力。中性：此为多年期研发与产能规划，对当前现货市场无直接影响，商业可行性待验证。

来源：TrendForce · 2026/3/15 · 查看原始来源