NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分:15/100
三星HBM4E将采用2nm基底芯片
三星计划在下一代HBM4E内存的基底芯片上采用其2nm工艺,以提升散热与能效。此举旨在巩固其HBM市场地位,对标使用台积电12nm工艺的SK海力士,后者计划在定制版HBM4E中升级至3nm。中性:此为远期技术路线图,对当前HBM现货供应、价格及短期交易无直接影响。
HBM4E
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来源:快科技 · 2026/3/15 · 查看原始来源
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