激埃特光电DUV光学镀膜精度提升至0.8nm

南京激埃特光电通过多层介质硬膜方案，将DUV光学系统的线宽均匀性从±2.1nm提升至±0.8nm，对准精度提升至±0.8nm。该技术旨在解决国内在缺乏EUV光刻机情况下，以DUV设备挑战3nm及以下工艺的瓶颈。中性：此为远期研发里程碑，未提及量产时间表或具体产能规划，对当前半导体元件供应、价格及交易无直接影响。

来源：快科技 · 2026/3/5 · 查看原始来源