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英国斯旺西大学实现4英寸氧化镓薄膜生长

发生了什么

斯旺西大学CISM中心启用AIXTRON CCS沉积系统,在英国首次实现4英寸氧化镓薄膜高质量均匀生长。氧化镓是用于功率半导体的下一代宽禁带材料,该进展属于研发里程碑。中性:此为长期技术研发,对当前电子元件交易市场的供应、需求和价格无直接影响。

影响与信号

低影响影响力评分:8/100

受影响器件与厂商

AIXTRON
R&Dsemiconductor-materialswide-bandgap

来源与时间

来源:Semiconductor Today · 2025/3/31 · 查看原始来源

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实时定价、供应信号与 AI 分析,为半导体贸易商而生