NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分:10/100
EUV光刻机PEB氧气浓度提至50%
IMEC发现将PEB阶段氧气浓度提升至50%可使MOR光刻胶感光速度提高15-20%,从而提升EUV光刻机产能并降低成本。这是继ASML光源功率提升后的又一优化方案。利空,该技术提升EUV产能效率,缓解供应瓶颈并抑制价格上涨压力。
EUV Lithography MachineMOR PhotoresistPhotoresist
capacityefficiencyoxygenphotoresist
来源:快科技 · 2026/3/1 · 查看原始来源
查看 NuAxi 完整情报 →
实时定价、供应信号与 AI 分析,为半导体贸易商而生