imec EUV光刻胶氧处理提速20%

imec实验显示，在EUV曝光后烘烤步骤中提升氧气浓度，可使金属氧化物光刻胶感光速度提升15-20%。该研究利用其BEFORCE专用平台，旨在探索提升EUV扫描仪产能的潜在工艺路径。利空/利多/关注：中性，此为远期工艺研发进展，对当前半导体组件供需、价格及交易决策无直接影响。

来源：EE Journal · 2026/2/27 · 查看原始来源