Imec EUV光刻胶工艺提速20%

Imec实验显示，在EUV曝光后烘烤步骤中提升氧浓度，可使金属氧化物光刻胶光敏速度提升15-20%，或提升EUV扫描机产能。该技术针对先进制程所需的金属氧化物光刻胶，但需新设备且工业化前景未定。利空/利多/关注: 中性，此为远期工艺研发进展，对当前组件供需与价格无直接影响。

来源：Tom's Hardware · 2026/2/27 · 查看原始来源